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细粉加工设备(20-400目)

我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备,拥有多项国家专利,能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目,是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。

超细粉加工设备(400-3250目)

LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术,专注于400-3250目范围内超细粉磨加工,细度可调可控,突破超细粉加工产能瓶颈,是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。

粗粉加工设备(0-3MM)

兼具磨粉机和破碎机性能优势,产量高、破碎比大、成品率高,在粗粉加工方面成绩斐然。

碳化硅的生产

  • 什么是碳化硅 (SiC)?用途和制作方法 Arrow

    2023年6月22日  碳化硅是怎么制成的? 最简单的碳化硅制造方法是在高达 2500 摄氏度的高温下熔化硅砂和碳(例如煤)。颜色更深、更常见的碳化硅通常包含铁和碳杂质,但纯 2020年6月10日  碳化硅的合成、用途及制品制造工艺 碳化硅 (SiC),又称金刚砂。 1891年美国人艾契逊 (Acheson)发明了碳化硅的工业制造方法。 碳化硅是用天然硅石、碳、木 碳化硅的合成、用途及制品制造工艺

  • 浮思特|碳化硅SiC生产工艺的全景解析 百家号

    2024年4月18日  碳化硅SiC的生产工艺涉及从原材料的选择和预处理、高温热处理,到晶体生长、切割、打磨、器件制造、检测与封装等一系列复杂步骤。每一步都需要精确控制,确保最终产品能够满足高性能电子器件对材料的严苛要求。 随着技术的日益成熟,SiC 本文对碳化硅的制备、烧结方法以及传统和新兴领域的应用进行了综述,分析了当前存在的问题,对未来的发展进行了展望。2 SiC的制备方法 21 固相法 固相法是利用两种或两种以上的固体物质,通过充分研磨和高温煅烧生产碳化硅的传统方法。碳化硅的制备及应用最新研究进展 汉斯出版社

  • 概述 Fiven

    碳化硅的生产 虽然在过去的几年里出现了替代的生产方法来选择高纯度的碳化硅,但今天使用的大部分碳化硅是使用所谓的Acheson 工艺生产的。在碳化硅的生产中,碳材料(通常是石油焦)和二氧化硅或石英砂的混合物 2021年7月21日  碳化硅,第三代半导体时代的中国机会 5G通信、电动汽车等新兴产业对碳化硅材料将产生巨大需求,大力发展碳化硅产业,可引领带动原材料与设备 碳化硅,第三代半导体时代的中国机会经济科技人民网

  • 碳化硅陶瓷工件生产:如何满足不同工件的加工需求 百家号

    2024年3月4日  碳化硅陶瓷工件的生产主要包括以下几个步骤: 1 原料制备:碳化硅陶瓷的主要原料是石英砂和石墨。 首先,将石英砂进行粉碎,然后与石墨混合均匀,形成碳化硅陶瓷的生胚。 陶瓷精密加工 2 成型:将碳化硅陶瓷的生胚放入模具中,通过压力成型,使其 2020年3月24日  碳化硅因其很大的硬度而成为一种重要的磨料,但其应用范围却超过一般的磨料。制备碳化硅制品首先要制备碳化硅冶炼块。在工业生产中,碳化硅冶炼块通常以石英、石油焦等为原料,辅助回收料、乏料,经过粉磨等工序调配成为配比合理与粒度合适的炉料经高温制备而成。碳化硅生产工艺百度经验

  • 知乎专栏

    2021年7月21日  碳化硅晶体的生长过程就如同“蒙眼绣花”一样,因为温度太高,难以进行人工干预,所以晶体的生长过程十分容易遭到扰动,而如何在苛刻的生长条件下稳定生长环境,恰恰是晶体生长最核心的技术。要想生产出高质量的碳化硅晶片,就必须攻克这些技术难关。碳化硅,第三代半导体时代的中国机会 国家自然科学基金

  • 第三代半导体材料之碳化硅(SiC)应用现状及前景

    11:27 近年来,以碳化硅为代表的第三代半导体材料在禁带宽度、击穿电场强度、饱和电子漂移速率、热导率以及抗辐射等关键参数方面具有显著优势,进一步满足了现代工业对高功率、高电压、高频率的需求 淄博金晶川新材料科技有限公司是以生产黑碳化硅为主的高新技术企业,拥有国内先进的碳化硅微粉生产线及工艺技术。主要产品有碳化硅、黑碳化硅、绿碳化硅、碳化硅微粉、碳化硅粒度砂、耐火材料等,厂家直销,价 淄博金晶川新材料科技有限公司

  • 碳化硅 意法半导体STMicroelectronics

    历经多年的研发积累,意法半导体于2004年推出了款碳化硅二极管。 SiC MOSFET问世于2009年,并于2014年开始量产。 如今,意法半导体基于SiC技术的中压和高压电力产品已在业内得到了广泛应用。 意法半导体积极进行产能扩张,并开发出可靠、稳健的SiC供应链 知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎

  • 盘点国内SiC碳化硅衬底与外延片公司(附碳化硅投资逻辑

    2023年11月29日  国内主要SiC碳化硅衬底企业汇总 1、山东天岳先进科技股份有限公司() 公司成立于 2010 年,主营业务是宽禁带半导体(第三代半导体)碳化硅衬底材料的研发、生产和销售,产品可应用于微波电子、电力电子等领域。 碳化硅半导体材料项目计划于 2026 年 知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎

  • 年产3000吨碳化硅微粉的生产线的可行性研究报告——课程

    2020年7月10日  生产采取年工作320 天,日工作两班, 每班日实际工作按75 小时计,则时产量约为625kg 32 粉磨机的选择 粉磨机是碳化硅微粉生产最为关键的工艺步骤,因为它直接决定 了产品的粒度,故在选择粉磨设备时,我们考虑的关键是其出料粒度 的范围,根据产品2020年8月21日  碳化硅粉体合成采用高纯碳粉和硅粉直接反应,通过高温合成的方法生成。 碳化硅粉体合成设备主要技术难点在于高温高真空密封与控制、真空室水冷、真空及测量系统、电气控制系统、粉体合成坩埚加热与耦合技术。 当前国外主要厂商包括Cree、Aymont等 高纯碳化硅粉体合成方法及合成工艺展望化学

  • 浮思特|碳化硅SiC生产工艺的全景解析 百家号

    2024年4月18日  碳化硅SiC的生产工艺涉及从原材料的选择和预处理、高温热处理,到晶体生长、切割、打磨、器件制造、检测与封装等一系列复杂步骤。每一步都需要精确控制,确保最终产品能够满足高性能电子器件对材料的严苛要求。 随着技术的日益成熟,SiC 本文对碳化硅的制备、烧结方法以及传统和新兴领域的应用进行了综述,分析了当前存在的问题,对未来的发展进行了展望。2 SiC的制备方法 21 固相法 固相法是利用两种或两种以上的固体物质,通过充分研磨和高温煅烧生产碳化硅的传统方法。碳化硅的制备及应用最新研究进展 汉斯出版社

  • 概述 Fiven

    碳化硅的生产 虽然在过去的几年里出现了替代的生产方法来选择高纯度的碳化硅,但今天使用的大部分碳化硅是使用所谓的Acheson 工艺生产的。在碳化硅的生产中,碳材料(通常是石油焦)和二氧化硅或石英砂的混合物 2021年7月21日  碳化硅,第三代半导体时代的中国机会 5G通信、电动汽车等新兴产业对碳化硅材料将产生巨大需求,大力发展碳化硅产业,可引领带动原材料与设备 碳化硅,第三代半导体时代的中国机会经济科技人民网