细粉加工设备(20-400目)
我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备,拥有多项国家专利,能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目,是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。
超细粉加工设备(400-3250目)
LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术,专注于400-3250目范围内超细粉磨加工,细度可调可控,突破超细粉加工产能瓶颈,是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。
粗粉加工设备(0-3MM)
兼具磨粉机和破碎机性能优势,产量高、破碎比大、成品率高,在粗粉加工方面成绩斐然。
ticl4纯度分析ICP
YS/T 6552016《四氯化钛》标准在线浏览、下载检测心得
YS/T 6552016《四氯化钛》 本标准规定了四氯化钛的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和合同(或订货单)内容。 本标准适用于以金红石、高 2018年8月19日 发现所用溶剂的选择和浓度在高反应性四氯化钛(TiCl 4)的分析中非常重要。在本文中,我们采用各种浓度的酸溶液作为稳定介质。通过傅立叶变换红外光 确定四氯化钛纯度的简便分析方法。,International Journal of
粗四氯化钛中低沸点杂质分离的计算分析陈杰 道客巴巴
2020年5月13日 Aspen P1us 的数据库包含粗 TiCl 4 物系的基本物化数据,如分子量、熔沸点、黏度等,能够满足精馏分离过程模拟计算的需要,粗 TiCl 4 物系的精馏分离符合 知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎
【题目】 TiCl 4 是制备钛及其化合物的重要中间体,可利用
(6) 利用如图所示装置测定产品纯度:称取 w g TiCl 4 产品进行实验,向安全漏斗中加入适量蒸馏水,待四氯化钛充分反应后,将烧瓶和安全漏斗中的液体一并转入锥形瓶中,用氢氧化钠溶液调节至中性,滴加几滴 01 molL1 的 K 2 CrO 4 溶液作指示剂,用 cmol L1 AgNO 3 标准溶液滴定至终点 ( Ag 2 CrO 4 为红 2019年11月30日 YS/T 6552016四氯化钛pdf,ICS7715099 H 64 中华人民共和国有色金属行业标准 — YST655 2016 代替 / — YST655 2007 四 氯 化 钛 Titaniumtetrachloride ㅤㅤㅤㅤ 发布 实施 中华人民共和国工业和YS/T 6552016四氯化钛 行业标准pdf 原创力文档
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2019年1月17日 本应用简报介绍了一种使用串联四极杆 ICPMS (ICPMS/MS) 测量高纯度铜中超痕量杂质的新方法。 针对Agilent 8900 ICPMS/MS 开发出一种可选的离子透镜(称为“ m 透镜”),从而能够在耐受基质的高功率等离子体条件下对超低浓度的碱金属进行测量。 m 透镜具有优化的几何 使用 Agilent 8900 ICPMS/MS 分析高纯度铜中的超痕量杂质
高纯度硫酸铜的 ICPOES 分析 安捷伦 Agilent
2024年5月30日 了解的价值:安捷伦整体解决方案 本例使用安捷伦 ICPOES 对高纯度硫酸铜进行元素分析,展示的内容包括设备、方法参数以及在锂离子电池行业中进行高纯度硫酸铜分析的典型结果。 安捷伦提供全系列仪器、消耗品、标准品、服务、软件等产品,让您的实 上海源象化学是一家专业从事提供和开发用于化学气相沉积和 原子层沉积 薄膜材料所需的特种电子化学品—即 ALD/ CVD高纯度前驱体源 ,以支持相关科研院校在半导体、显示、纳米、新能源、催化等领域的学术研究。公 ALD/CVD高纯度前驱体 上海源象化学有限公司
使用 ICPMS/MS 直接分析高纯硝酸中 的痕量金属杂质
2019年4月16日 如需将污染控制在很小程度,需要更高纯度的制程化学品和生产条件。半导体器件加工工业利用完善的清洗步骤去除硅片表面的有机和金属残留物以及杂 质。生产过程中使用的试剂纯度和加工工厂的空气质量是重要的考虑因素。使用 ICPMS/MS 直接分析高纯 2019年12月6日 结论 分析高纯度精制的铟(In)、镓(Ga)中的杂质时,由于高浓度烟(In)和镓(Ga)存在多种波长的干扰,因此,在以上23、24等分析中选择了最合适的分析波长。 在这种情况下不需要使用MSF波长干扰模式,不过为了防止样品和标准溶液之间存在比重和粘度的差异 利用ICPOES分析 高纯度铟(In)、 镓(Ga)中的杂质
四氯化钛性质和制取 百度文库
精TiCl4纯度一般在99.9%以上。 不论用哪种氯化方法制取TiCl4,氯化产物均以混合炉气[含TiCl4约35%~45%(体积分数)]形态产出,经收尘、淋洗、沉降、过滤将非冷凝性气体CO、CO2以及Cl2、HCl等、杂质氯化物FeCl3、FeCl2、MgCl2、MnCl2等以及未氯化的固体粉料进行初步分离。子 +40Ar35Cl ,使 As 可在质量数 75 处得到直接测量,从而准确分析未 稀释浓 HCl 中的痕量 As。直接分析浓酸省略了样品前处理流程中的 稀释步骤,从而大大降低样品污染的可能性。 利用 7700s/7900 ICPMS 直接分析 高纯度盐酸中的痕量金属杂质 应用简报利用 7700s/7900 ICPMS 直接分析 高纯度盐酸中的痕量金属
用TiCl4制备纳米TiO2的研究状况 豆丁网
2014年4月2日 制备纳米TiO的研究状况杜剑桥,王兰武(攀枝花钢铁研究院,四川攀枝花)要:综述了以TiCl4为原料制备纳米TiO2的主要方法:氢氧火焰水解法、气相氧化法、气相燃烧法、液相沉淀法、溶胶-凝胶法、微乳液法和水热法,并对其优缺点做了相应的评论,最后指出了今后研究的方向。2021年10月9日 ICPMS小白进阶指南(内附资源) 【摘要】 ICPMS是一种将ICP技术和质谱结合在一起的分析仪器,它能同时测定几十种痕量无机元素,在无机实验室地位斐然,今天小编就其发展史、检测原理、结构、检测范围、保养维护及其它注意事项等,和大家进行探 超干货!ICPMS小白进阶指南(内附资源)材料测试科学
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(6) 利用如图所示装置测定产品纯度:称取 w g TiCl 4 产品进行实验,向安全漏斗中加入适量蒸馏水,待四氯化钛充分反应后,将烧瓶和安全漏斗中的液体一并转入锥形瓶中,用氢氧化钠溶液调节至中性,滴加几滴 01 molL1 的 K 2 CrO 4 溶液作指示剂,用 cmol L1 AgNO 3 标准溶液滴定至终点 ( Ag 2 CrO 4 为红 【题目】 TiCl 4 是制备钛及其化合物的重要中间体,可利用
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